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X 射線熒光 (XRF)

發布時間：2020-09-26 09:35:42來源：www.xinbangw.com

　　X 射線熒光 (XRF) 打印

　　什么是 XRF

　　X 射線熒光 (XRF) 是一種強大的定量和定性分析工具，用于材料的元素分析。它非常適合測量薄膜厚度和成分，按固體和溶液的重量測定元素濃度，以及鑒定復雜樣品基質中的特定元素和微量元素。XRF 分析廣泛應用于半導體、電信、微電子、金屬加工和精煉、食品、醫藥、化妝品、農業、塑料、橡膠、紡織品、燃料、化學品和環境分析等許多行業。該方法快速、準確、無損，幾乎無需樣品制備。

　　XRF 如何工作

　　當樣品中的元素暴露于高強度 X 射線源時，熒光 X 射線將以這些元素特有的能級從樣品發射。

　　所有 XRF 光譜儀的基本概念都是源、樣品和檢測系統。源照射樣品，檢測儀測量從樣品發射的熒光輻射。在大多數情況下，XRF 的源是 X 射線管。替代方案是放射源或同步加速器。XRF 儀器主要有兩種類型：能量色散 X 射線熒光 (EDXRF) 和波長色散 X 射線熒光 (WDXRF)。

　　X 射線光學晶體可用于增強這兩種 XRF 儀器。對于常規 XRF 儀器，樣品表面典型焦斑尺寸的直徑范圍從幾百微米到幾毫米不等。多毛細管聚焦光學晶體從發散 X 射線源收集 X 射線，并將它們引導至樣品表面上形成直徑小到幾十微米的小聚焦光束。由此增加的強度以小焦斑傳遞到樣品，可增強用于小特性分析的空間分辨率和用于微 X 射線熒光應用的微量元素測量性能。雙曲面彎晶光學晶體將高強度微米級單色 X 射線束引導至樣品表面，用于加強元素分析。

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